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新光速動態
發布日期：2016-09-10 09:48:43
拋光墊作為CMP系統的重要組成部分,其性能直接影響CMP過程及拋光效果"拋光
墊的主要作用:
(1)能夠協助拋光液在拋光過程中,有效均勻的運送拋光液到拋光墊的不同區域,
并且能夠提供新補充的拋光液進行一個拋光液的循環"
(2)順利將舊的拋光液及拋光后的反應物!碎屑等排出"
(3)維持拋光墊涵養拋光液時,在拋光墊表面所形成的薄膜的厚度,此厚度對拋
光速率將會有顯著的影響"
(4)拋光墊必須對拋光液具有良好保持性"加工時拋光墊必須涵養足夠的拋光液,
才可以使CMP中的機械與化學反應充分的作用"
(5)為了控制拋光過程的穩定!均勻性與再現性,拋光墊的材料物理性質!化學
性質及表面形貌等特性,都需要保持穩定"
